하루씩 오르다 독서 - 데일리 모의고사 20세트

안녕하세요. 문의하신 Day4 13번 문제에 대해 답변 드립니다.

해당 문항은 노광 공정의 왜곡 요인과 생산성 최적화 관계를 보기의 변형 조건들과 지문의 정보를 바탕으로 비교·분석하여, 각 설계안의 물리적 속성을 논리적으로 추론할 수 있는지를 평가하는 문항입니다.

1. 설계안 간의 변환 경로 및 설계 조건 계승 관계

설계안 B의 도출: 보기의 [결과 1]에 따르면, 설계안 B는 기존 설계안 A에서 거울의 수를 늘리고 '입사광과 패턴 배치 사이의 각도를 평행에 가깝게 조정'하여 얻은 것입니다. 즉, 패턴 배치 조정은 기존 설계안 A에는 존재하지 않으며, B에 이르러 비로소 적용된 개선 사항입니다.

설계안 D의 도출: 보기의 [결과 3]에 따르면, 설계안 D는 기존 안인 A가 아니라 앞서 도출된 설계안 B에서 거울의 수를 늘리고 마스크의 흡수체 두께를 얇게 변환하여 얻은 것입니다. 이는 설계안 B가 확립한 기존의 조건인 '패턴 배치 평행 조정' 속성을 그대로 유지(계승)한 상태에서 추가적인 변형을 가했음을 의미합니다. 따라서 설계안 D는 [패턴 배치 조정 적용]과 [흡수체 두께 감소]가 모두 반영된 상태입니다.

2. 설계안 C와 D의 그림자 왜곡 억제력 비교

설계안 C: 보기의 [결과 2]에 따르면, C는 기존 설계안 A에서 출발하여 흡수체의 두께만 줄인 것이므로, 패턴 배치 평행 조정은 적용되지 않은 상태(패턴 비평행 + 흡수체 두께 감소)입니다.

설계안 D: B에서 출발하여 두께를 줄였으므로 패턴 평행 조정과 흡수체 두께 감소가 중첩 적용된 상태입니다.

질의하신 대로 거울의 수 증가는 그림자 왜곡 제어에 영향을 주지 않으며, 해상력과 광량에만 영향을 주는 것이 맞습니다. 그러나 C와 D의 그림자 왜곡 정도가 차이 나는 이유는 거울의 수 때문이 아니라, D는 패턴 배치 평행 조정이 적용된 B를 모체로 삼았고, C는 패턴 조정이 적용되지 않은 A를 모체로 삼았기 때문입니다.

지문 5문단에 따르면 그림자 왜곡을 억제하는 대응책으로 '흡수체의 두께를 줄이는 것'과 '패턴을 입사광 방향과 평행하게 배치하는 것'을 제시하고 있습니다. 따라서 두 가지 대책이 모두 적용된 D가 한 가지만 적용된 C보다 그림자 효과 억제(왜곡 제어)에 유리하므로, "C는 D에 비해 그림자 효과에 의한 왜곡이 심해진다"는 진술은 타당합니다.

3. 거울의 수와 웨이퍼 처리 속도의 관계

지문 4문단에 따르면 거울의 수가 늘어날수록 광량 손실이 거듭제곱으로 증가하여 최종 광량이 감소하고, 이는 생산성(웨이퍼 처리 속도)의 저하로 이어진다고 기술되어 있습니다.
설계안 C는 기존안 A의 거울 수(N)를 유지한 반면, 설계안 D는 B를 거쳐 D에 이르는 과정에서 거울 수가 두 차례 증가(N→N+α→N+α+β)한 설계안입니다.
따라서 거울 수가 적은 C의 웨이퍼 도달 광량이 D보다 많으므로, "C는 D에 비해 웨이퍼 처리 속도가 증가한다(빠르다)"는 진술 역시 타당합니다.

결론적으로, "C는 D에 비해 그림자 효과에 의한 왜곡이 심해지고, 웨이퍼 처리 속도는 증가한다"라고 진술한 ④번 선지는 C와 D의 왜곡 차이가 거울의 수 때문이 아니라, B에서 D로 계승된 '패턴 평행 배치' 조건의 유무에 있다는 점을 명확히 한다면 해결하실 수 있습니다.

학습에 도움이 되셨길 바라며, 더 궁금한 점이 생기신다면 언제든 편하게 문의 부탁드립니다. 감사합니다.

오르다국어연구소 드림

안녕하세요. 문의하신 Day 1 8번 문제에 대해 답변 드립니다.
해당 문항 확인 결과, ①번 선지의 표기 오류를 확인했습니다.
번거로우시겠지만, 원활한 학습을 위해 ①번 선지의 ‘주희의 견해에 의하면’을 ‘이지의 견해에 의하면’으로 정정하여 학습해 주시길 부탁드립니다. 수정 사항은 정오표로 정리하여 빠르게 업로드하겠습니다.
학습에 불편을 드린 점 다시 한번 사과드리며, 더 좋은 문항으로 보답하는 오르다국어연구소가 되겠습니다.
학습 중 더 궁금한 점이 생기시면 언제든 편하게 문의 부탁드립니다. 감사합니다.

오르다국어연구소 드림